在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，光刻機(jī)是核心設(shè)備，不僅決定了芯片制造的工藝水平，也是耗時(shí)最多、成本最高的一步，目前先進(jìn)的7nm、5nm及接下來(lái)的3nm都需要EUV光刻機(jī)，一臺(tái)售價(jià)將近10億人民幣，目前還是供不應(yīng)求。

EUV光刻機(jī)目前只有荷蘭ASML公司可以生產(chǎn)，他們的產(chǎn)能將決定全球先進(jìn)工藝擴(kuò)張的速度，日前ASML公司高級(jí)副總裁Christophe Fouquet在高盛會(huì)議上確認(rèn)，將增加EUV光刻機(jī)的產(chǎn)能。

他們?cè)绢A(yù)計(jì)在2025年的時(shí)候EUV年產(chǎn)能是70臺(tái)，現(xiàn)在決定提升到每年90臺(tái)，有助于緩解產(chǎn)能不足的問(wèn)題。

今年Q2季度還沒(méi)結(jié)束，ASML公司就收到了超過(guò)100臺(tái)EUV光刻機(jī)的訂單，這已經(jīng)大大超過(guò)了他們的產(chǎn)能，今年該公司計(jì)劃出貨EUV光刻機(jī)不過(guò)55臺(tái)，只能滿足一半的訂單量，客戶都要排隊(duì)等待。

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